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Radiant Zemax SIG300/310/400

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SIG-300 透过坚固的机械设计、精准的光学配置及软件控制来达到工业等级般的精准测量。SIG-300 可适用于一般大多数的光源,从LED 光源到中尺寸的光源测量,垂直方向或是水平方向的光源测量皆适用,并且有微小影像分析、标准影像分析及微小视觉范围可做选配。

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SIG系列
小光源近场光线分布测量系统

SIG-300
光源效率的精准模拟是需要经过研制计算的,光学设计、装置的设计选项、装置的筛选和质量控管以及亮度的设置,这些都需要经过直接且的测量实际上的光源效率。SIG-300 是光源影像式角度机,其可采集并汇集光源周围多角度面向的亮度及颜色测量,这些光信号会汇整至Radiant Source Model(RSM) 进一步分析出光源的效率,这些分析数据可用来提供光学设计上使用。
    SIG-300 透过坚固的机械设计、精准的光学配置及软件控制来达到工业等级般的精准测量。SIG-300 可适用于一般大多数的光源,从LED 光源到中尺寸的光源测量,垂直方向或是水平方向的光源测
量皆适用,并且有微小影像分析、标准影像分析及微小视觉范围可做选配。
    RSM 是光源近场效率刻划显示的工业标准模型,它有着丰富的信息,可提供亮度值及色坐标数值,还可保存所有测量的影像,并且能够使用ProSource® 的功能使其更精准,产生更完整的射线组合用来提供光学设计用的原型,减少光学设计时不必要的时间。
    Radiant Imaging 提供完整全系列的光源影像式角度机,适用来量测LED 光源用的SIG-400 系列到大面积光源的SIG-310 系列机型。

特点 :
• 支持垂直光源及水平光源设置测量
• 提供亮度及颜色的近场测量模型
• 视觉范围及分析的多光学结构配置
• 用集成影像数据来产生RSM的模型
• 稳定性高的LED光源及弧光光源精准测量模式
应用 :
• 测量待测光源所有角度近场光强度分布与色度
• 提供的射线组合提供光学设计套件软件使用
• 提供光学设计与原型测试的近场模型

SIG-310
    光源近场亮度的精准测量和大面积光源的颜色分布需要精准的光学、机械和软件设计的组合,架构于Radiant Imaging 工业等级的SIG-300 及SIG-400 系统的设计上,SIG-310 系列实现高阶的色度计,坚固的机械结构配置让此系统能够更更稳定的量测,搭配容易使用的控制软件,SIG-310 可以广泛的适用于各种测量应用,不论是垂直光源的配置或是水平光源的配置皆可适用。
    SIG-310 利用多视角来采集大面积光源亮度及色度的影像空间结构来产生高准确的近场模型。记录在工业标准的Radiant Source Model(RSM) 格式内,这些数据使用ProSource® 软件功能,可提供详细的数据分析及数据输出给大多数主要的光学设计套件,更的近场模型量测能产生更
精准的射线配置而得到更好的光源系统设计。
    SIG-310适用于一般光源的测量,可用于研发或产品特性的测量。

• 大面积光源优化测量
• 支援垂直光源及水平光源设置的测量
• 提供亮度及色度的近场模型
• 多样光学结构配置强化视野范围及分辨率
• 采用集成影像数据产生RSM模型
应用 :
• 测量大面积待测光源所有角度近场光强度分布
• 测量大面积光源近场色度分布等特性
• 提供的射线组合提供光学设计套件软件使用

SIG-400
    因应LED 组件及光源应用的迅速成长,对于LED 组件及光源的发展研制、估算及光学设计来说,准确的LED 模型效能是必须的,这可透过低成本的方式来选择组件设计、质量控制以及发光效率的设计等应用。
    SIG-400 是光源影像式角度机,可采集和整理LED 光源或相似的小面积光源的多角度亮度及色度值,精准的刻划出实际的光效率。汇总入Radiant Source Model(RSM) 的数据数据可进一步做光效率的分析和光学设计中射线的配置。
    SIG-400 是对LED 光源的优化测量系统,可减少系统的体积及降低成本,并简化测量的工序;此外,也提供了多样化的选配,如像素的分辨率、微观视野、标准视野、巨观视野的范围选择。
    SIG-400 透过坚固的机械结构设计、精准的光学配置以及软件控制,使其成为业界领导等级的准确量测系统,SIG-400 在测量整个待测件的时后能够精准的定位到待测件的中心点,经测试后不超过15 微米,当量测LED 裸片时可让测量错误降到zui小。

特点 :
• LED芯片、颗粒及组件的优化测量系统
• 多样光学结构配置强化视野范围及分辨率
• 提供亮度及色度的近场模型
• 用集成影像数据来产生RSM模型
应用 :
• 测量LED或是小面积光源所有角度近场光强度分布
• 测量LED或是小面积光源近场色度分布
• 提供光学设计与原型测试的近场模型

 

 


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