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棱镜耦合测试仪的特性及应用领域介绍

更新时间:2021-12-15 点击次数:259
   棱镜耦合测试仪主要是用于电解质和聚合物膜的厚度、折射率和波导参数的快速测量。适用于薄膜厚度在2-100µm的聚合物材料、硅基氧化膜、硅基玻璃膜,在干涉条纹产生的基础上通过改变角度产生干涉条纹(VAMFO-变角度单色条纹观测)的方法。
  
  对于厚膜折射率的测量,单色光被直接照射到被测样品上,这样,从薄膜表面反射回来的光的干涉小值就会发生变化,光的入射角也会发生变化。在这种技术中,薄膜厚度是由两个干涉小值的角的位置计算出来的。对于这种测量条件——薄膜具有两个或两个以上的干扰小值——薄膜厚度必须大于低脱粒率,通常为2微米。样品夹持机采用真空从背面支撑样品,安装方便简单。可测量薄膜/基底的类型,硅衬底上几乎任何透明或半透明材料的氧化物、氮化物、介质、聚合物或薄膜。可测量的薄膜/衬底类型:氧化物、氮化物、介电材料、聚合物、或硅衬底上几乎任何透明或半透明材料的薄膜。
  
  一、棱镜耦合测试仪的特性:
  1、薄膜及波导折射率/厚度测量,包括梯度折射率的测量;
  2、体材料折射率的测量;
  3、薄膜及体材料的双折射测量;
  4、移动光纤测试波导损耗;
  5、双层薄膜测量(甚至在波长1310nm或1550nm处有几个~㎛厚度);
  6、不相关的薄膜/基板组合;
  7、无需预先知识,操作简单;
  8、批量或基板材料的准确测量;
  
  二、主要应用领域:
  1、光波导器件;
  2、激光晶体材料;
  3、聚合物材料;
  4、显示技术材料;
  5、光/磁存储材料;
  6、光学薄膜。

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