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光学元件面型测量仪

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Kaleo MultiWave 光学元件面型测量仪是一台多波长工作的光学元件面形测试系统,用于替代昂贵、低效、操作复杂的干涉仪,测量光学元件的表面面形、透过波差等参数。

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Kaleo MultiWave 是一台多波长工作的光学元件面形测试系统,用于替代昂贵、低效、操作复杂的干涉仪,测量光学元件的表面面形、透过波差等参数。

Kaleo MultiWave 通过单次测量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面质量参数尊崇ISO 10110标准。表面不规则,粗糙度以及波纹亦可测试。

Kaleo MultiWave*的多波长测试功能可以在光学元件设计的工作波长进行测试,从而对光学元件基底、镀膜获得完整的评价。仪器具备和传统干涉仪同等的精度,同时具备更大的动态范围以测试复杂面形的光学元件。测试以双程模式工作,兼容透射与反射测量。

多波长干涉仪:

同一机台,多个波长

标配:625nm - 780nm - 1050nm

可选:UV - 400nm - 1100nm - 短波红外

高动态范围:

> 20um PV

高度畸变波前测试

高精度:

精度与干涉仪同等

高重复度,低噪声

高性价比的干涉仪解决方案

规范:

遵从ISO 5725 标准

兼容MetroPro 格式

兼容 ISO 10110 格式

用途:

表面面形测试

镀膜(AR,介质膜,金属膜测试......

窗片,干涉滤光片测试

透镜,非平面镜测试

应用:

光学元件研发制造

滤光片及窗片制造

空间及防务

汽车工业

激光器及其应用

光学元件面型测量仪KALEO MultiWave技术指标:

光路结构

双通路

标准配置波长

625, 780, 1050nm

可选波长

400 - 1100nmUV, IR

有效口径

130mm

可重复性 (ISO 5725)

< 5nm rms

可再造性 (ISO 5725)

<7nm rms

动态范围 (失焦), RWE

10um PV

动态范围 (失焦), TWE

200nm rms

精度 (RWE)

<80nm rms

精度 (TWE)

<20nm rms

 

光学元件面型测量仪KALEO MultiWave测试实例:

Fizeau干涉仪测试结果的比较

 

NBP-780滤光片测试。二者测量RWE的偏差小于40nm P-V

 

非球面镜3-D面形

 单次测量,无需空白透镜。可通过扣除理想曲面得知面形残余误差,从而获知非球面镜的加工质量。

产线设备监控

 

通过对塑料、树脂模压光学元件的直接测试,实时获知加工效果,对模具状态、工件调整精度等作出实时评价。


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